Politex™CMP抛光垫

用于化学机械平整(CMP)的Politex™垫系列用于铜屏障,抛光和清洁应用。Politex™垫是行业标准的软垫。

  • 好处:

    • 用于多种应用的行业标准软垫
    • 不需要空调

    应用程序

    • 铜障碍,浅黄色
其他CMP应用程序

我们的CMP焊盘涵盖广泛的应用和技术节点。要进一步探索杜邦CMP焊盘,请参阅我们的申请产品系列概述