Optivision™CMP抛光垫

Optivision™化学机械平化(CMP)垫系列是杜邦的第二代软垫,改进了Politex™垫的性能,旨在提高拥有成本。

  • 好处:

    • 与Politex™抛光垫相比,提高了去除率和瑕疵率
    • 可在多种基底上使用
    • 与Politex™垫相比,寿命更长

    应用程序:

    • 铜障,抛光,多晶硅
其他CMP应用程序

我们的CMP平台覆盖了广泛的应用和技术节点。进一步探索杜邦CMP垫,见我们的产品系列的应用概述