Microfill™EVF垂直直流微Via灌装过程

MicroFill™EVF通过填充提供增强的微孔填充,以前具有同时通孔镀层能力,以前是可靠的表面厚度。配方以在广泛的操作条件下在现有设备中操作,该电镀浴适用于HDI和IC基板应用。

关键好处:

  • 镀层厚度低(20µm)
  • 同时进行微孔填充和通孔电镀
  • 简单的常规CVS分析方法
  • 用于钢丝粘合的矩形轨迹轮廓线
  • 可与可溶性和不溶性阳极兼容
  • 良好的可靠性

100μmdia x60μm深,
12µm表面铜

70μmdia x35μm深,
15µm表面铜

图像组件

150µm直径x 100µm深,
20µm表面铜

0.15mm直径x 1.0mm深,
20µm表面铜