Kapton®EN,高模量聚酰亚胺薄膜

DuPont™Kapton®EN是一种高性能的聚酰亚胺薄膜,用于柔性印刷电路和高密度互连的介质基板。Kapton®EN是非常细间距电路的首选介质膜,由于其优越的尺寸稳定性,平铺,高模量,热膨胀系数匹配铜。

Kapton®EN的厚度范围很广,从超薄5µm到50µm厚,为客户提供了更多的设计灵活性。

Kapton®HN和VN薄膜所固有的优良电学特性和化学蚀刻性在Kapton®EN聚酰亚胺薄膜中得到了保持。Kapton®EN薄膜也具有非常低的吸湿性,并可激光烧蚀。

应用程序包括:

  • 柔性印刷电路
  • 微细电路
  • 芯片规模封装
  • 高密度互联

Dupont™Kapton®Nen聚酰亚胺膜的典型特性

财产

单位

方向

20岁

30岁

50元

100年在

200N.

测试方法

厚度

µm

-

5.0

7.5

12.5

25

50.

JIS K 7130

抗拉强度

MPA.

医学博士
道明

335

335

350

360

355

380

375

375

345

365

JIS K 7161

伸长

医学博士
道明

55.

55.

60.

65.

65.

60.

55.

55.

70

55.

JIS K 7161 

模量

平均绩点

医学博士
道明

5

5

5.3

5.5

5.3

5.7

5.3

5.3

5.3

5.8

JIS K 7161