集成电路衬底

cirposit™7900 Electroless Copper for SAP

Circuposit™7900 Athertoligalest铜工艺专为SAP应用而开发。新的Circuposit™SAP护发素通过确保在介电材料上均匀的吸收催化剂提供均匀的铜沉积物。

关键好处:

  • 细矿床结构
  • 优异的化学铜覆盖,包括微疏松
  • 卓越的剥离强度后,回流
  • 均匀的厚度
  • 优异的通过可靠性
  • 高耐迁移
  • 优秀的浴稳定

细晶粒结构

出色的底部覆盖

闪光蚀刻后10um L/S