ArF干抵制

DuPont的正色调ARF(193nm)干燥光致抗蚀剂已针对沟槽和线路和空间(L / S)应用通过间距进行了优化。

特征

  • 90 nm 1:1线和空间
  • 90nm ISO线

好处

  • 非常大的过程窗口在不同的音高
  • 优秀的形象
  • 好身份偏见
  • 良好的蚀刻性

1a: 90 nm L/90 nm S

90nm ISO L

图1:170 nm在AR™26N / AR™上4124快速蚀刻,0.93NA,ANN。S:0.72 / 0.49,PSM掩模,SB / PEB = 125°C / 110°C,PS = 27.4MJ