AR™254是248nm(KRF)光致抗蚀剂的有机,热交联底部抗反射剂。它具有出色的间隙填充和平坦化特性,这是具有FinFET结构的先进半导体器件的关键要求。AR™254具有高蚀刻速率,以降低基板损坏和最佳光学参数以最小化反射率。
特性
好处
图1:优异的间隙填充10 nm沟槽
聚合物 |
腐蚀率 O2 /基于“增大化现实”技术 |
---|---|
KrF抵制 |
0.45 |
传统KrF巴克 |
0.60 |
AR™254. |
1.31 |
图2.:快速蚀刻速度
|
焦点偏移 |
|
---|---|---|
+ 0.15和 |
+ 0.05嗯最好的焦点 |
-0.05嗯 |
|
|
|
图3.: AR™254上卓越的抗蚀性