AR™201有机间隙填充材料

AR™201是有机间隙填充材料。它可以填充极窄的沟槽，没有空隙，为具有FinFET结构的先进器件提供了优异的解决方案。AR™201也可以作为抗反射剂，减少KRF和ARF过程的反射率。

特征

• 超值数字孔径（NA）曝光的最佳N＆K值
• 高蚀刻率
• 良好的抗蚀剂兼容性
• 优秀的涂料性能
• 良好的EBR / RRC溶剂兼容性

好处

• 提高关键尺寸均匀性（CDU）
• 改善光刻过程边距
• 改善蚀刻过程边距

图1：间隙填充高纵横比地形：宽高比= 10

图2：优异的差距填充和平坦化