电子解决方案
抗反射剂和功能性子层
AR™137是一种用于浸没式光刻的有机底部抗反射涂层(oBARC)。它的设计目的是提供优良的光学参数,以减少通过超数值孔径(NA)浸没曝光角度的反射。AR™137的快速蚀刻速率通过减少蚀刻过程中的抗蚀损耗来改善图案转移。
特征
好处
图1:高Na的反射率曲线(Na = 1.35)
图2:宽工艺裕度和良好的LWR在39nm 1:1 L/S
图3:低升华
AR™46.
基于“增大化现实”技术™137
图4:保形涂层和优异的阶梯覆盖
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