抗反射剂和功能性子层

AR™137有机底部防反射涂层

AR™137有机底部防反射涂层

AR™137是一种用于浸没式光刻的有机底部抗反射涂层(oBARC)。它的设计目的是提供优良的光学参数,以减少通过超数值孔径(NA)浸没曝光角度的反射。AR™137的快速蚀刻速率通过减少蚀刻过程中的抗蚀损耗来改善图案转移。

特征

  • 最佳n&k值的超NA暴露
  • 腐蚀率高
  • 与抗蚀剂相容性好
  • 优秀的涂料性能
  • 良好的EBR/RRC溶剂相容性

好处

  • 提高关键尺寸均匀性(CDU)
  • 提高光刻工艺的利润率
  • 提高蚀刻工艺裕度

Ar-137-有机底抗反应剂涂层

图1:高Na的反射率曲线(Na = 1.35)

Ar-137-有机底抗反应剂涂层

图2:宽工艺裕度和良好的LWR在39nm 1:1 L/S

Ar-137-有机底抗反应剂涂层

图3:低升华

AR™46.

基于“增大化现实”技术™137

图4:保形涂层和优异的阶梯覆盖