抗反射剂和功能性子层

AR™10L底部防反射涂层

AR™10L底部防反射涂层

AR™10L是248nm(KRF)光致抗蚀剂的有机,热交联底部抗反射涂层(BARC)。它旨在为高温和低温抗蚀剂平台提供通用的抗反射表面,并提供优异的与大多数亚太山杂交和缩醛抗蚀剂相容性。AR™10L是共形1分钟。,248nm抗反射剂,通常用于反射基板上的透明薄膜上的400-1200A的范围内。

特性

  • 近似光密度= 9 abs /嗯
  • 保形涂层
  • 普遍抵制兼容性
  • 在反射介质上,第1分钟薄膜厚度=600A
  • 可与普通旋涂、EBR溶剂配套使用
  • 蚀刻速度快,通常比DUV系列光刻胶快30-40%

150 nm 1:1线/空间

图1:410 nm UV135在60 nm AR™10L快速蚀刻

150 nm隔离线

图2:398 NM SL4000 ON 60 NM AR™10L快速蚀刻

190nm 1:1线/空间

图3:520 nm uvn30 on 60 nm ar™10L快速蚀刻

170 nm 1:1线/空间

图4:AR™10L快速蚀刻反射率曲线