Kalrez®零件减少了晶圆污染

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减少晶圆污染|Dupont™Kalrez®密封件

卡雷斯®FFKM密封件有助于最小化晶圆处理污染

通过对化学物质的非凡抵抗力,全氟弹性体(FFKMS)用作晶片加工设备上的密封件,包括反应性等离子体和高达327°C的极高热量。FFKM性能可以根据化学成分而变化。特别配制卡雷斯®可能需要产品来帮助减少晶圆污染。

典型FFKM的低分散性质

减肥/粒子生成

制造商已发现等离子体是一种非常强大的蚀刻工具,用于蚀刻,CVD和剥离,因为所有材料都被消耗。由于其对侵略性介质的卓越抗性,因此在这些过程中使用FFKM密封件。长时间暴露于等离子体可以降解密封表面,即使在密封功能丢失之前也导致颗粒污染。因此,理想的密封件将抵抗表面劣化,同时保持密封功能。排出的密封件设计为具有展台化学攻击并提供延长的密封寿命。它们表现出低重量损失和颗粒生成,从而提高晶片产量,增加工艺可靠性和降低设备维护频率。有关四种FFKM化合物,请参见血浆中的相对颗粒产生。

FFKM的金属萃取物

除了外粘/密封功能

高温和温度尖峰可以“烹饪”弹性密封,导致它们变得坚硬和脆。发生这种情况时,它们的交联结构是弹性的关键,变得不可逆转地损坏,使得有效的密封是不可能的。弹性体也可以在高温下降低,导致发生过余味,从而污染过程环境。氧化和扩散等热过程需要密封,不仅可以抵抗工艺化学品,而且还需要抵抗过程化学品,而且还需要极端温度。可靠,用于密封材料的适用温度额定值最佳地由长期(672小时)测试来定义,用于密封力保留。从室温高达400°C,请参阅极低的典型FFKM化合物的极低分散性能。

金属,离子和TOC萃取物

为了将原始半导体材料转化为有用的装置,使用侵蚀性酸,溶剂(包括胺)和碱。这些化学品可以攻击弹性密封件,导致它们溶胀和降解或浸出不希望的金属和离子萃取物。这可能导致晶片污染和随后集成的电路功能。

FFKM密封件用于晶片清洁,湿法蚀刻和光刻。专门设计的FFKM化合物化合物低水平的金属,离子和TOC萃取物以及优异的耐化学性。在UPDI水,Piranha和SC1中,在1个月后看到几种FFKM化合物的提取物性能。