半导体制造和封装材料

半导体封装材料

半导体包装材料跨越光谱

所有类型的先进半导体套件的广泛材料组合

凭借50多年投资于技术开发,杜邦电子&成像在市场上了解市场,并为一系列技术领域开发了广泛的半导体包装材料组合。

我们从公司的其他领域吸取经验,在整个电子制造供应链中发挥作用。

通过与领先制造商的密切关系,我们开发新材料,以满足不断变化的需求,从主流封装技术,如倒装技术,到新兴技术,如扇出晶圆级封装和通过硅通道(tsv)。我们是凹坑金属化(UBM)、铜再分布层(RDL)、铜柱、焊点以及RDL用聚合物和电介质等电镀材料的技术领导者。其他先进的材料包括光刻胶和TSV填充。

选择DuPont作为您的材料解决方案合作伙伴:

  • 获得完整的解决方案,不仅仅是材料
  • 利用多年的专业知识和技术,从整个电子和成像
  • 从行业趋势领先的发展中受益

产品系列

  • 铜柱电镀
  • 铜层重新分配
  • 撞击焊镀
  • 在凹凸金属化下
  • 撞镀光阻
  • 通过硅通过铜
  • 包装电介质
  • 半导体封装材料是一类电子解决方案,用于形成IC芯片与封装基板、另一个封装或直接与印刷电路板的连接。这些材料对半导体晶圆级封装工艺、异质集成和3D集成技术至关重要。

  • 当今的前沿电子产品预计将采用较小的形式零件,使用较少的功率,同时提高性能和可靠性。这些器件电源移动设备,高性能计算机,物联网,内存,汽车电子,未来的5G网络等。必威官网是多少它们依靠遵循异构集成路线图(HIR)的半导体包装材料,旨在满足这些严格的要求。

半导体封装材料

  • 铜层重新分配

    铜层重新分配

    杜邦电子与成像铜化学再分布层(RDLs)非常适合今天对晶圆级封装应用的高密度要求。

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  • 铜柱电镀

    铜柱电镀

    我们经过生产验证的铜柱配方与我们的凹凸金属化(UBM)和锡银覆盖化学剂完美配合,为您的所有铜柱需求提供无缝解决方案。

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  • 撞击焊镀

    撞击焊镀

    杜邦屡获殊荣的Solderon™BP电镀化学品是锡铅合金的可靠替代品,适用于所有晶圆碰撞应用。

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    • Solderon™BP 1000铟化学

    铟电镀化学专为低温焊料电镀工艺设计,用于先进的晶圆级封装,对温度敏感。

    • Solderon™BP TS 6000锡-银电镀化学

    hvm验证的锡银电镀化学无铅,细间距焊料凸点应用,具有行业领先的工艺多功能性。
  • 在凹凸金属化下

    在凹凸金属化下

    我们提供经过生产验证的电镀镍化学,以满足各种UBM工艺的需要

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  • 撞镀光阻

    撞镀光阻

    杜邦公司提供正色调和负色调光刻胶,以满足当今半导体先进封装应用中紧凑的间距和多变的地形。

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    圆片级封装干膜光刻胶解决方案,适用于3DIC、扇出、碰撞、铜柱和再分布应用。

    Dupont提供液体凸块电镀光致抗蚀剂,以及相关的辅助物,其非常适合使用单自旋涂层的晶圆级包装应用。
  • 通过硅通过铜

    通过硅通过铜

    电镀镶嵌铜的多年经验和成功有助于杜邦将前沿铜TSV化学物质带到先进的包装市场。

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  • 包装电介质

    包装电介质

    杜邦的包装介质配方具有机械性能、高分辨率、低温固化、易于处理和卓越的可靠性,可以保护您的先进WLP。