用于保护高性能IC芯片

杜邦电子与成像公司的封装介质系列通过绝缘从芯片到封装衬底到电路板的配电线路,保护当今高性能IC芯片免受物理、化学和电气损坏。

旨在满足钝化和再分配层应用的先进晶圆级包装(WLP)架构的需求,我们的基于BCB的CycloteNe™和基于环氧树脂的Snovia™介电材料提供:

  • 低固化温度
  • 低损耗
  • 良好的热稳定性
  • 耐化学性
  • 良好的光学性质
  • 平台发明新材料

我们的专利,先进制剂给您:

  • 吞吐量较高
  • 改进的设备可靠性
  • 高分辨率
  • 能够满足高端设备的性能要求

产品系列:

  • intervia™光电电池
  • Cyclotene™3000系列先进的电子树脂
  • Cyclotene™4000系列先进的电子树脂
  • Cyclotene™6000系列先进的电子树脂

半导体包装材料

  • 包装电介质

    包装电介质

    杜邦的包装介质配方具有机械性能、高分辨率、低温固化、易于处理和卓越的可靠性,可以保护您的先进WLP。

  • 铜柱电镀

    铜柱电镀

    我们的生产经过验证的Cu Parkar配方与我们的凹凸不可金属化(UBM)和锡银封盖化学物质完美和谐,为所有CU支柱需求提供无缝解决方案。

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  • 焊料碰盖

    焊料碰盖

    杜邦屡获殊荣的Solderon™BP电镀化学品是锡铅合金的可靠替代品,适用于所有晶圆碰撞应用。

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    铟电镀化学设计用于低温焊接工艺,用于高级晶片级包装,用于对温度敏感的新兴应用。

    HVM-经过验证的锡镀锡化学,用于无铅,精细焊接凸块应用,具有行业领先的过程多功能性。
  • 在凹凸金属化下

    在凹凸金属化下

    我们提供生产的经过生产验证的电镀镍化学,以满足各种UBM工艺需求

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  • 撞镀光阻

    撞镀光阻

    杜邦公司提供正色调和负色调光刻胶,以满足当今半导体先进封装应用中紧凑的间距和多变的地形。

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    圆片级封装干膜光刻胶解决方案,适用于3DIC、扇出、碰撞、铜柱和再分布应用。

    Dupont提供液体凸块电镀光致抗蚀剂,以及相关的辅助物,其非常适合使用单自旋涂层的晶圆级包装应用。
  • 通过铜通过铜

    通过铜通过铜

    电镀镶嵌铜的多年经验和成功有助于杜邦将前沿铜TSV化学物质带到先进的包装市场。

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  • 铜层重新分配

    铜层重新分配

    用于再分配层的杜邦电子和成像铜化学物质(RDL)非常适合今天对晶圆级包装应用的高密度要求。

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