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世代创新的CMP Pads被授予化学英雄奖

杜邦电子与成像公司代表将获得美国化学学会半导体材料创新奖

威尔明顿,德尔,2020年5月11日-杜邦电子与成像今天宣布,其化学机械平面化(CMP)垫背后的创新者已被称为2020年美国化学学会(ACS)的化学奖。荣誉识别杜邦CMP垫产品背后的关键个人,包括产品系列,如Ikonic™,VisionPad™,OptiVision™和IC1000™垫。

CMP是半导体制造工艺中的一个关键步骤,用于晶圆的每一层,以实现器件表面的精确均匀性。杜邦提供全套抛光垫,旨在满足每个CMP应用和节点的不同性能需求。

有了这个奖项,七位个人将因其在CMP焊盘创新中的作用而获得ACS的认可,代表了几代人的技术发展和进步。这些创新跨越了多家公司,从CMP业务的根源Rodel,Inc.,到Rohm和Haas电子材料公司、陶氏电子材料公司和杜邦电子成像公司。

杜邦电子与成像公司全球CMP研发总监Marty DeGroot博士和杜邦电子与成像公司CMP焊盘研发首席科学家Bainian Qian博士因其在引领全球产品开发方面的作用而获得认可Ikonic™CMP PAD系列,杜邦的最新平台,可满足高级节点的严格流程要求,并可跨多个应用程序和节点提高生产效率。

该奖项还承认已退休的五个人,但在杜邦CMP投资组合的发展中是有助于的。Mary Jo Kulp博士和David James博士被认可为他们在发展中的作用愿景™ pad系列.James也是Optivision™pad平台的关键贡献者。John Roberts, Harry (George) McClain和William (Bill) Budinger被认为主要是因为他们在发展中扮演的角色IC1000™垫家庭今天被称为行业标准PAD,是推动未来创新的基础。

杜邦电子与成像公司研发副总裁Cathie Markham表示:“杜邦的CMP垫是质量、性能和可靠性的代名词,今天仍在继续树立标准。”“我们自豪地向我们的化学英雄们致敬,感谢他们对这项重要工作的杰出贡献,同时也向使这些技术成为可能的团队致敬,包括研究人员、技术人员、工程师、质量专家、营销人员、操作人员和其他合作确定客户需求、设计材料、规模化、优化并提供稳定的供应。”

化学英雄奖是由ACS赞助的年度奖项,旨在表彰工业化学科学家和公司在通过商业创新和产品改善人类福利方面发挥的作用。杜邦公司也被授予化学奖的第二个英雄2020年用于纳米滤热产品,用于治疗市政饮用水。

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