杜邦电子与成像公司的彼得·特雷福纳斯入选美国国家工程院

认可是工程学的最高专业荣誉;认可对多代微电子的开创性贡献

马尔堡,质量。- 2018年10月4日

杜邦专业产品部的一个业务部门杜邦电子与成像公司今天宣布，公司研究员彼得·特雷福纳斯博士已被提名为国家工程院（NAE）.

特雷福纳斯是今年由同行提名的83名新成员和16名外国成员中的一员。新当选的班级于9月30日在华盛顿特区举行的NAE年会上的正式仪式上就职。

该学院表彰对“工程研究、实践或教育；开拓新的和发展中的技术领域；在传统工程领域取得重大进展；或开发和/或实施创新的工程教育方法”做出重大贡献的工程师特雷福纳斯因其在光刻胶材料和微光刻方法方面的重大发明而获得认可，这些发明支撑了多代半导体制造工艺。

特雷福纳斯说：“我真的很感激提名我进入学院的同龄人，我很荣幸加入这个成就卓著的团体。”。“我还要感谢我的同事，他们在我的大部分研究中与我合作，因为他们为学院认可的工作做出了巨大贡献。”

特雷福纳斯在微电子行业的职业生涯是当今许多半导体制造发明的基础。他目前拥有88项美国专利，涉及光刻材料和工艺、抗反射涂层、嵌段共聚物、显示器、染料、OLED、光子学和纳米材料。

Trefonas是一名公认的作家和演讲家，曾于2014年获得美国化学学会化学英雄奖，并于2016年获得化学工业学会Perkin奖章。2018年早些时候，他是一位SPIE的成员，国际光学与光子学学会。

杜邦电子与成像公司全球研发总监Cathie Markham表示:“Trefonas的研究成果和创新成果给我们的业务和客户带来了不可思议的影响。”“他不断激励我们的研究和工程团队开发新颖的解决方案，以应对行业挑战，并考虑新的可能性。我们祝贺他获得这一杰出的认可。”

在半导体光刻的众多成就中，Trefonas帮助将第一个i线光刻胶产品和安全溶剂光刻胶产品引入市场，并领导了193nm和248nm光刻胶配方以及有机底部防反射剂涂层配方的项目。

彼得·特雷福纳斯博士。入选美国国家工程院（NAE）彼得·特雷福纳斯博士。入选美国国家工程院（NAE）杜邦专业产品部杜邦电子与成像公司研究员彼得·特雷福纳斯博士于2018年9月30日在华盛顿特区举行的NAE年会上（左至右）入选美国国家工程院（NAE）是英国国家能源局主席戈登R；彼得·特雷福纳斯；和NAE总裁小C.D.莫特博士。（照片由NAE提供。）

关于杜邦电子与成像

随着2017年陶氏和杜邦的合并，陶氏电子材料和杜邦电子与通信结合了他们的投资组合和专业知识，创建了新的杜邦电子与成像业务，这是陶氏杜邦新的专业产品部门的一部分。杜邦电子成像是一家全球性的材料和技术供应商，服务于半导体、先进芯片封装、电路板、电子和工业涂饰、光伏、显示、数字和柔版印刷行业。来自世界各地的先进技术中心，由才华横溢的科学家和应用专家组成的团队与客户密切合作，提供解决方案、产品和技术服务，以实现下一代技术。有关杜邦电子与成像的更多信息，请浏览www.ljlcyg.com/electronic-solutions.html.

关于陶氏杜邦特种产品部

杜邦特种产品公司是杜邦公司（NYSE:DWDP）的一个部门，是一家全球创新领导者，拥有基于技术的材料、配料和解决方案，有助于改变行业和日常生活。我们的员工运用不同的科学和专业知识，帮助客户提出他们的最佳想法，并在关键市场（包括电子、交通、建筑和施工、健康和健康、食品和工人安全）提供必要的创新。杜邦打算将名为杜邦的专业产品部门分离为一家独立的上市公司。有关更多信息，请访问www.dow-dupont.com.

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丽贝卡•拉扎尔
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