贝灵汉,洗。- 2018年2月22日

Peter Trefonas博士，在陶氏电子材料最近，由于在制造设计和紧凑型建模方面的成就，他被选为SPIE的研究员。

国际光学与光子学学会(SPIE)将在今年提拔73名新院士，以表彰他们在光学、光子学和成像等多学科领域的重大科学和技术贡献。SPIE研究员的荣誉来自于他们的技术成就，以及他们对普通光学社区特别是SPIE的服务。

Trefonas已经证明了自己是先进光刻技术的领导者，在先进光刻的关键领域有许多被高度引用和开创性的论文。他对抗蚀化学机理的基础研究做出了贡献，如多光解，非线性发展机理和基于第一性原理的溶解速率模型。他还发表了关于渗透和反应扩散机制的论文。Trefonas撰写了一些关于散粒噪声和随机效应的最早论文，以及第一篇关于显影的分形分析的论文，以及第一篇关于光刻信息理论的论文。他是一种测量光酸量子效率的简单方法的合著者，并贡献了一篇关于极紫外(EUV)随机性和随机发展模型的著名论文。他还发表了关于确定性自下而上/自上而下材料设计的开创性工作。

Trefonas通过出版文献和他在技术会议中的作用，为全球光学社区提供了广泛的服务。他撰写了ITRS半导体路线图的重要部分，内容致力于新兴材料。他为材料研究学会组织并主持了一次关于新兴显示材料的会议，为IEEE主持了多次关于微光刻的会议，并为美国物理学会组织并主持了一次关于定向自组装(DSA)和嵌段共聚物的会议。作为一名讲师，他在美国、欧洲和亚洲的多个地方提供了一整天的光刻和防反射涂料教程。他还帮助培养下一代的创新者，负责聘用和指导40多名目前活跃的科学家，并对光学学界非常感兴趣的科学和材料做出贡献。

作为SPIE的长期会员，Trefonas也为协会提供了重要的服务。他在SPIE学报上发表了41篇论文微/纳米光刻，MEMS和MOEMS杂志．他目前是SPIE杂志平版印刷材料论文的积极评论员。

Trefonas的工作获得了许多荣誉和奖项。其中包括化学工业协会的工业化学贡献珀金奖章，美国化学协会化学英雄奖的有机快速等离子蚀刻减反射剂，C.格兰特威尔逊奖的最佳口头论文在SPIE先进光刻，Rohm和Haas技术奖的抗反射剂和248nm抗光刻剂，Shipley研发创新奖的i线光刻剂，以及孟山都Ex Obscura创新创新奖。他最近还当选为美国国家工程院院士。

Trefonas将于本月晚些时候在加州圣何塞举行的SPIE Advanced Lithography会议上被认可为新的SPIE Fellow。