陶氏很荣幸地宣布，陶氏电子材料研究员James Thackeray博士被授予SPIE院士称号，国际光学和光子学学会．

SPIE院士的称号是一项显著的行业成就，也是新兴光基技术中完成工作的标志。SPIE的高级成员在被提名之前要根据几个标准进行评估。这包括他们在光学、光子学或成像领域的个人科学和技术贡献，以及他们在SPIE和科学界的参与。

在过去的十年中，Jim Thackeray因其在光抗蚀剂、抗反射涂层和用于紫外线(UV)、深紫外线和极紫外线(EUV)光刻的使能材料的开发方面的许多成就而得到认可。Thackeray博士目前正在开发下一代用于20纳米以下节点的光刻胶材料。

“平版印刷材料的创新对于摩尔定律的进步至关重要，”萨克雷说。“我非常自豪能够为目前全球半导体制造商使用的成像材料的设计做出贡献。”

Thackeray博士拥有75项美国专利，包括许多与开发用于光抗蚀剂的共聚物和使用这些材料形成电子器件的方法有关的专利。他继续创新，其中6项专利在2017年刚刚发布。作为SPIE 20年的成员，Thackeray积极参与SPIE先进光刻会议，参与制模材料和工艺会议委员会的进展，并在数十个SPIE会议上发表研究。

萨克雷说:“我很荣幸被欢迎加入许多有才华的SPIE研究员的行列。”“SPIE社区继续丰富我的工作和职业生涯，SPIE先进光刻等会议为讨论前沿研究和材料挑战提供了巨大的机会。我期待着在未来的岁月里继续参与。”

Thackeray分享了他在设计支持EUV光刻的材料方面的研发经验，为陶氏的Litho UniversitySM系列开发了两个视频。在这些简短的教育视频中，他讨论了与EUV抗辐射技术相关的挑战，以及EUV光刻中临界尺寸均匀性和灵敏度之间的权衡。

在加利福尼亚州圣何塞举行的2017年SPIE先进光刻会议的全体会议上，萨克雷被欢迎为新的SPIE研究员。今年宣布了71位新的研究员，并将在全年的活动中受到表彰。的新研究员的完整名单可在SPIE网站上查阅。