光阻

符合代理的光刻工艺要求

Dupont提供了一种强大的生产经过验证的光致抗蚀剂产品系列，其材料选项可满足从一代光刻工艺的要求，从365nm下降到13.5nm波长，并达到280nm至20nm的曝光。

追求更小的技术节点意味着光刻胶必须提供更高、更好的分辨率、更宽的聚焦深度和更少的缺陷。同时，遗留节点依赖于经过验证的公式。从我们的i-line/g-line，到我们的193和KrF产品系列，杜邦都有符合您需求的光刻胶。

当与杜邦的蚀刻、开发和辅助产品相结合时，您将得到一个完整的材料解决方案，以支持您的半导体制造过程。

我们广泛的投资组合还允许我们定制光致抗蚀剂以满足特定的客户规格。

线上产品

我们的传统i-Line（365nm）光刻胶的配方可满足不同的厚度要求，同时实现高分辨率和低缺陷。

相关产品：

• SPR™ 3光刻胶
  
• SPR™700光刻胶
  
• MCPR™光致抗蚀剂

DUV产品

我们的DUV (248nm)光刻胶具有优良的产品性能和低缺陷，适用于各种应用。

• UV™正音质抗蚀剂支持暴露和早期发展。它实现了高分辨率以适应更小的图案尺寸。
• UVN™负色调抗蚀剂，曝光是反向显影。无浮渣，UVN™抗蚀剂是深沟槽图案的最佳解决方案。
• SL™ 抗蚀剂是我们的低温抗蚀剂，烘烤温度低于100℃。它的特点是分辨率高，适用于较小的图案尺寸。

史诗™ 光致抗蚀剂

EPIC™光致抗蚀剂是193系列抗蚀剂，广泛用于193个工艺，其中没有面漆。Dupont的Epic™IM抗蚀剂专为浸没式设计而设计的独特环境，其中镜头和晶片之间的水能够暴露更细的图案。

• 防止抗蚀剂浸入水中渗透抗蚀剂膜的部件
• 在水和抗蚀剂之间创建屏障层，使屏障层变得不必要，从而节省客户的时间和金钱