光刻材料和服务

抗反射剂和功能性子层

抗反射剂和功能性子层

解决先进光刻技术的挑战

杜邦的抗反射涂层和功能亚层产品包括底部抗反射涂层(barc)、硅抗反射涂层(siarc)和自旋碳基抗反射涂层(soc)。它们旨在解决当今先进技术节点和3D结构的关键尺寸所带来的先进光刻挑战,提高吞吐量,并使分辨率提高到20nm线距。

  • 抗反射涂层和子层——BARCs和siarc,以及soc——通过扩大和改进工艺和反射率窗口来提高光刻的有效性:

    • BARCs在曝光过程中减少反射光,提高了抗蚀剂的反射率控制。它们还可以防止湿过程造成的基材损坏。
    • SiARC材料在抗蚀剂作用下控制光学成像,同时也作为蚀刻屏障来管理蚀刻图案。
    • soc充当平面化材料。他们创造了一个高碳层,帮助控制蚀刻性能。

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