电子解决方案
光刻材料和服务
杜邦的抗反射涂层和功能亚层产品包括底部抗反射涂层(barc)、硅抗反射涂层(siarc)和自旋碳基抗反射涂层(soc)。它们旨在解决当今先进技术节点和3D结构的关键尺寸所带来的先进光刻挑战,提高吞吐量,并使分辨率提高到20nm线距。
抗反射涂层和子层——BARCs和siarc,以及soc——通过扩大和改进工艺和反射率窗口来提高光刻的有效性:
抗反射涂层和子层通过扩大和改进工艺和反射率窗口来提高光刻的有效性。
与光刻胶结合使用,杜邦的高级大衣材料可以防止缺陷,改善光刻工艺窗口,使特征图案更精细。
杜邦坚固的、经过生产验证的光刻胶产品线提供了满足几代光刻工艺要求的材料选择。
杜邦的根基深植于其经过生产检验的辅助光刻产品系列。从显影剂,去除剂和其他增强化学剂,我们支持一个完整的光刻解决方案。
DUV和193nm光刻胶的性能从聚合物开始,杜邦电子级聚合物继续改进现有的聚合物制造、分离和评价技术。
我们提供的服务,如缺陷测试或图案晶圆
我们喜欢谈论我们的电子解决方案如何建立业务,使产品商业化,并解决我们这个时代更大的挑战。
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