让我们谈谈我们的工厂技术专家如何帮助您的光刻项目。除了提供材料的光刻技术,凭借我们先进的光刻成像和计量设备,我们可以帮助您的工作流程的其他方面。可提供的服务包括测量、缺陷测试、工艺设计或提供图形晶圆。
我们的晶圆厂有一系列的工具,从g线和i线光刻到ArF浸没光刻,为了更好地支持我们的客户和半导体行业,我们现在能够提供这些定制或批量测试。测试可以一次性完成,也可以作为重复事件长期完成。我们还拥有一整套计量工具,可用于在我们的设备上进行光刻成像或在非现场拍摄的晶圆上进行成像。我们的专家也可以协助开发新的光刻工艺,我们可以提供我们的光刻材料(如光刻胶,抗反射涂层和辅助材料)作为工艺设计或项目的一部分。
继续阅读以查看平版图像的类型可用的和计量工具,以及我们可以提供的服务示例。即使在这里未列出,请随时与我们联系我们。
下面的例子展示了使用我们的设备可以做的工作类型:
这些示例代表我们可以提供的服务类型的小型采样。光刻成像和计量通常是根据项目需求所确定的定制设计,因此请随时与我们联系以讨论您的特定项目需求。
技术 |
晶片尺寸(mm) |
能力 |
---|---|---|
东盟地区论坛(193海里浸泡) |
300 |
外套和模式 |
ArF (193 nm干) |
200 |
外套和模式 |
KRF(248nm) |
200 |
外套和模式 |
线上(365海里) |
200 |
外套和模式 |
线上(365海里) |
One hundred. |
涂层和洪水暴露 |
宽带 |
200 |
外套和模式 |
宽带 |
One hundred. |
涂层和洪水暴露 |
g线路(436海里) |
One hundred. |
外套和模式 |
计量 |
晶片尺寸(mm) |
描述 |
---|---|---|
薄膜测量 |
100/200/300. |
光学参数 |
临界维扫描 |
200/300 |
CD测量 |
缺点 |
200/300 |
薄膜缺陷检测工具, |
扫描电子显微镜 |
所有 |
扫描电子显微镜, |
扫描电子显微镜 |
100/150/200 |
自顶向下,x射线, |
能力 |
晶片尺寸(mm) |
工具集 |
---|---|---|
溶解率 |
100/150 |
单点DRM激光器,GCA,DNS |
光密度 |
One hundred. |
甘氨胆酸紫外- |
莳萝 |
10 |
洪水曝光工具,UV-Vis,GCA |
我们提供缺陷测试或图案化晶片等服务