电子级聚合物适用于当今挑战性的光刻应用

DUV和193NM光致抗蚀剂性能从聚合物开始，杜邦电子级聚合物继续改善现有的聚合物制造，分离和评价技术。

我们的合成和隔离专业知识使电子聚合物能够创造出广泛的聚合物，这是当今挑战性的光刻应用，从乙酰氧基苯乙烯单体（ASM）到高分子均匀性（HCU）聚合物。

asm.

乙酰氧基苯乙烯单体（ASM）是用于产生杜邦电子级聚合物的基本单体。与其他反应性单体组合使用或用作均聚物产生的唯一组分，ASM是一种高纯度反应性单体，其容易经历自由基聚合，并能够在宽的宽度下产生聚（对乙酰氧基）苯乙烯（PAS）聚合物的产生分子量范围。我们非常关心和努力，以保持这一关键材料的最高质量。

通过定制制造的共聚物和聚合物

杜邦在自由基聚合化学方面开发了深厚的专业知识。定制产生的树脂，与ASM组合，解决了透明度，多分散性，酸扩散特性，溶出速率，TG等越来越多的需求，对半导体器件的临界层的临界层性能至关重要的其他因素生产。