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电子邮件增强化学制剂，以支持整体光刻解决方案
杜邦的根源在其生产验证的辅助光刻产品系列中涌现。从有机和无机开发人员到一套全套的去除套，脱脂器和边缘珠溶剂和清洁产品，我们的配方展示了时间的考验，并为客户提供整个光刻工艺的完整解决方案。
杜邦的全球制造和支持足迹使这些低成本的解决方案很容易实现。
- 开发人员
我们的开发人员被设计为特定于应用程序的，以适应客户的偏好。选择我们的含金属离子，有机和无金属离子无机开发商，有多种配方，包括:
- TMAH为基础
- Non-TMAH
- 表面活性剂辅助
- 钠基
- 低泡沫
- 酸值基于
- 预混合配方提供了易用性和额外的安全效益
- 也可集中形式，以节省成本
- 拆卸器和剥离器
我们的去除剂和剥离剂经过过滤和处理，以确保最高纯度的溶剂，可在光刻胶沉积之前形成干净的线条。这导致低缺陷，即使在先进技术节点上也是如此。
- 散装去除剂可用于浸泡或分批喷涂
- 蚀刻后残留物去除剂可用于浸没、批量喷涂或单晶圆加工
杜邦公司提供了一整套配套的化学制剂，作为光致抗蚀剂的配套产品，涵盖不同加工条件下的多个方面。这些措施包括：
- 氟基蚀刻后残留清除剂
- FSC-M保护性晶圆涂层用于改进后剥离处理
- 独有的沟槽金属化脱层工艺，无需CMP
- Hypersol™系列用于RRC或管道清洗
光刻材料和服务
- 辅助光刻材料
辅助光刻材料
杜邦的根基深深扎根于其经验证的辅助光刻产品生产线。从开发商，去除剂，和其他增强化学，我们支持一个完整的光刻解决方案。
- 高级涂层
高级涂层
- 抗反射剂和功能性子层
抗反射剂和功能性子层
- 光致抗蚀剂
- 电子级聚合物|杜邦电子解决方案
电子级聚合物|杜邦电子解决方案
- 计量和成像服务
计量和成像服务